半导体清洗用**纯水设备 新乡半导体工业**纯水设备工艺

南京嘉泽环保科技有限公司

纯水设备采用的预处理+反渗透技术，**高纯水设备采用预处理+反渗透+edi设备。根据不**业标准采用不同的工业流程才制取符合行业用水标准。
       纯水设备使用非常广泛，例如半导体、光学、电力、核电、石油、电池、汽车、石墨稀、电镀、电子、清洗产品、食品行业等等。
参数说明：
       产水量：0.25吨/小时至100吨/小时
       进水水质：**自来水或者井水
       出水水质：符合客户要求的纯水水质
       电导率范围：0.055μS/cm~10μS/cm
       电阻率范围：1MΩ·cm~18.2MΩ·cm（常温下20°C）

食品行业用水要求比较严格，需要达到多种标准，所以，食品用水处理设备就需要经过不同的工序处理，材质方面也必须采用食品级不锈钢材料，整套设备生产过程中，严格，保证了设备以后的正常运行和食品级用水要求。

工业用纯水设备使用参数要根据进水及出水水质来进行调节，并且工业用纯水设备对于进水是有要求的，如果进水水质不达标，水质过差，会导致工业用纯水设备无常运行，甚至发生损坏。

电除盐EDI模块采用模块化技术，通过不同数量的模块搭配，可以满足各种水处理要求。为发电、半导体、微电子、化工以及生物制药等行业的高纯水的生产提供了有力的**。具有CE、UL、和CSA标识，欧洲FDA卫生认证通过ISO900L:2000认证能够稳定生产出电阻率高达18MΩ.cm的**纯水。
产品培训
培训至少1-2名设备操作管理人员。
培训内容：基础理论、设备构造、设备操作、CIP清洗消毒、设备维护保养、仪表校正、设备故障排除、现场实操等。