系统如果配置了EDI，那么如果不把EDI进水的PH调节为中性的话，会增加EDI的负担而降低它的寿命。一般反渗透出水中会溶有二氧化碳，而使PH呈酸性，所以一般如果采用双级反渗透的话，在二级反渗透增压泵前会加入氢氧化钠溶液，调节PH值。用计量泵实时加入，可以有效的控制反渗透的出水PH值。这样可以使得后续EDI的使用寿命大大增加，而且可以有效的控制出水的PH值符合生产要求。
电子行业对水中的离子含量要求较高，本系统采用了反渗透技术，结合的EDI，混床技术，使产水水质可达18.25兆欧，水质符合美国ASTM标准。目前我国电子工业部把电子级水质分为五个行业标准，分别为18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm，以区分不同水质
技术参数：
产水水质：水质符合美国ASTM标准，电子工业部超纯水水质标准18MΩ•cm，15MΩ•cm，10MΩ•cm，2MΩ•cm和0.5MΩ•cm五级
产水水量：0.5-100T/H
材 质：玻璃钢 不锈钢 有机玻璃等
工艺流程：
1、预处理→反渗透→水箱→阳床→阴床→混床→纯化水箱→纯水泵→紫外线器→精制混床→精密过滤器→用水对象
2、预处理→一级反渗透→加药泵（ PH调节）→中间水箱→二级反渗透→纯化水箱→纯水泵→紫外线器→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水对象
3、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线器→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水对象
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线器→精制混床→0.2或0.5 μ m精密过滤器→用水对象
主要特点：
*该系统一切动作均在预设程序下自动进行，具备全自动功能。
*系统结构布置紧凑，有效节约空间。
*系统能耗低，制水廉。
*系统运行，供水管路封闭，出水水质稳定。
适用范围：
生产半导体、光伏太阳能、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业用超纯水系统
纯水设备的特点：
1 、零部件均采用厂家，质量可靠。
2 、整体化程度高，易于扩展，增加膜数量即可增加处理量。
3 、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。
4 、脱盐率高，可达 98 %以上。
5 、能耗低，运行。
6 、水利用率高，回收率达到 50 - 75 %。
7 、结构合理，占地面积少。
8 、的膜保护系统，在设备关机时，淡化水可自动将膜表面的污染物冲洗干净，延长膜寿命。
9 、系统无易损部件，无需大量维修，运行长期有效。
大型纯水系统在使用了一段时间后，反渗透膜由于有机物、结垢以及其他原因污堵后就需要及时化学清洗，如果反渗透膜被高压泵击穿了，那么清洗后水质也不会有提高。那么只要膜没有被击穿的话，都是可以清洗的。在酸洗和碱洗过程中，控制好它们的浓度，依据温度为指示标准，清洗过程中每隔5分钟测下清洗液的温度，如果温度超过35摄氏度的话，应立即停止清洗，因为高温可能会使它们的膜孔变大，进而失去脱盐的能力。
