新闻:宁夏SDG酸性吸附剂--厂家价格
半导体制作可能排放的特殊毒性气体种类众多,像薄膜成长制程、化学气相沉积(CVD)、干蚀刻(dry
etching)、扩散(diffusion)、离子植入(ion
implantation)与磊晶(epitaxy)制程等等所排放的AsH3、PH3、SiH4、B2H6、SiH2Cl2,CL2,HF,PH3,NH3,HBr,F2,HCL,COS等等,都是含有特殊毒性的危险气体。针对此类的废气处理需把握各单元所排放的废气特性,串联多种不同型式的废气处理设备和吸附剂。目前常应用于处理半导体制程中特殊毒性气体处理的处理技术,一般可以分为四种,干式吸收或吸附法、湿式洗涤法等。其中各种吸附剂的配合使用为目前半导体行业的主流处理技术。
半导体工段
|
处理气体
|
成分备注
|
名称
|
半导体厂流程
|
Etching
|
BCl3,
BF3,
Cl2,
F2,
HCl, etc.
|
半导体用活性炭系列,耐高温,阻燃
|
XFJ-CS-1
|
蚀刻流程
|
BCl3,
BF3,
Cl2,
HBr, HCl, HF, F2,
WF6,
etc.
|
氢氧化物系列
|
XFJ-CS-2
|
蚀刻流程
|
Diffusion
|
B2H6,
SiH2Cl2,
SiH4,
Si2H6,CO
etc.
|
氢氧化物常温催化剂系列
|
XFJ-GW-3
|
扩散流程
|
BCl3,
Cl2,
NH3,
SiH2Cl2,
etc.
|
氧化金属系列
|
XFJ-CAN-4
|
扩散流程
|
Ion Implantation
|
AsH3,
B2H6,
H2S,
H2Se,
PH3,
etc.
|
氧化金属系列
|
XFJ-LW-5
|
离子植入流程
|
BCl3,
BF3,
Cl2,
GeF4,
HBr, HCl, HF, F2,
etc.
|
氢氧化物系列
|
欢迎来到北京水碧清环保科技有限公司网站,我公司位于拥有6项*遗产,拥有文化遗产项目数较多的城市,一座有着三千余年建城历史、八百六十余年建都史的历史文化名城,拥有众多历史名胜古迹和人文景观的中国“八大古都”之一 —北京。 具体地址是
联系手机是13439118983,
主要经营水碧清(北京)环保科技有限公司主营:聚合硫酸铁厂家,氨氮去除剂厂家价格,絮凝剂聚合氯化铝厂家,**硫TMT-15厂家价格,**硅消泡剂厂家价格,助凝剂厂家等优质产品,公司技术力量雄厚,检测设备齐全,各项指标均符合标准,在大型工程项目的净化水系统中广泛使用。。